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是真正涂布粘著在晶圓上之數十甚至數百倍，極其可惜；哈默納科涂布機諧波齒輪SHF-40-80-2UH因為甩到晶圓外的光阻中有機溶劑迅速揮發逸散，成份大變，不能回收再使用。
5、厚光阻
德國Karl-Suss公司開發了一種新型的光阻涂布機，哈默納科涂布機諧波齒輪SHF-40-80-2UH稱為GYRSET??，其賣點在于強調可減少一半的光阻用量，且得出更均厚的光阻分布。其原理極為單純：只是在真空轉臺上加裝了跟著同步旋轉的蓋子。如此一來，等于強迫晶圓與蓋子之間的空氣跟著旋轉，那么光阻上便無高轉速差哈默納科涂布機諧波齒輪SHF-40-80-2UH的粘性旋轉拖曳作用。故光阻在被涂布時，其與周遭流體之相對運動并不明顯
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