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中文名稱：N,N - 二乙基羥胺（簡稱：二乙基羥胺、DEHA）
英文名稱：N,N-Diethylhydroxylamine

別名：二乙胲、N - 羥基二乙胺

CAS 號：3710-84-7

分子式：\(\mathbf{C_4H_{11}NO}\)
分子量：89.14
外觀：純品無色透明液體；工業(yè)品淡黃色透明液體，有輕微胺味
類別：有機還原劑、自由基捕捉劑
危險性：易燃；對皮膚、眼睛、呼吸道有刺激性；低毒
理化性質(zhì)
熔點：-26 ~ -25℃
沸點：125–130℃（常壓）
密度：0.902 g/mL（25℃）
閃點：45–49℃（閉杯）
折射率：n??/D 1.420
蒸氣壓：4 mmHg（0℃）；3.36 mmHg（25℃）
溶解性：與水任意比互溶；易溶于乙醇、苯等有機溶劑
穩(wěn)定性：常溫穩(wěn)定；遇光、空氣易氧化變黃；高溫分解出氮氧化物
化學特性：中等強度還原劑，具自由基捕捉能力，水溶液呈弱堿性
主要用途
高分子工業(yè)：高效阻聚劑（核心用途），用于苯乙烯、丁二烯、乙烯基單體的生產(chǎn) / 儲存，抑制自聚，防設(shè)備堵塞；丁苯橡膠乳聚終止劑。
水處理：鍋爐除氧緩蝕劑，中高壓鍋爐給水脫氧劑，消除溶解氧；在金屬表面形成鈍化膜，防腐蝕；可還原六價鉻為三價鉻。
抗氧化與穩(wěn)定：防老劑 / 穩(wěn)定劑，用于不飽和樹脂、油品、橡膠、塑料，延緩氧化老化；光敏樹脂、感光乳劑的抗氧穩(wěn)定劑。
環(huán)保：光化學煙霧抑制劑，抑制大氣中氮氧化物與碳氫化合物的光化學反應(yīng)。
電子化學品：光刻膠助劑，半導體制造中作光刻膠自由基抑制劑、電子元件清洗劑。
其他：醫(yī)藥 / 農(nóng)藥中間體、染料合成助劑、攝影顯色穩(wěn)定劑。