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碳化硅拋光液簡介
MYH-SCPS800 是第三代半導體碳化硅高端制程核心精密拋光耗材,依托高端化學機械協同拋光技術,實現碳化硅晶片 / 器件原子級超凈平坦化,精準消除深層加工損傷,嚴控表面粗糙度與面型精度,為碳化硅基高端半導體、光電器件高性能應用提供工藝支撐。
超精拋光(行業術語):通過精準調控化學腐蝕與納米機械研磨協同作用,徹底去除加工刀紋、變質層及亞表面損傷,表面粗糙度控制在原子級(Ra≤0.05nm),實現:
產品特點
應用范圍
核心用于碳化硅材料粗拋、精拋及超精密終拋,實現低缺陷、原子級平坦化,適用于:
常見類型
? 高端碳化硅晶片:4H/6H-SiC 高純度單晶襯底、GaN on SiC 高端外延片及 2/4/6/8 寸高端晶圓片粗磨,晶片減薄后超凈粗磨修復;
? 高端碳化硅器件:車規級功率、高頻射頻器件襯底,高端光電 / 激光部件、高精度 MEMS 芯片碳化硅基底粗磨;
? 高端碳化硅結構件:超精密機械密封件、耐強腐蝕耐磨件,航工 / 軍工耐高溫件、高端光學元件粗磨成型;
? 其他高端硬脆材料:藍寶石外延襯底、氮化鎵高端晶片,高純度石英玻璃、精密陶瓷及半導體高端設備陶瓷部件粗磨預處理。儲存與使用