高真空PECVD系統(tǒng)
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商品詳情
產(chǎn)品概述：
諾泰高真空PECVD系統(tǒng)是由管式爐，真空系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)、射頻電源系統(tǒng)等組成。系統(tǒng)主要應(yīng)用于金屬薄膜，陶瓷薄膜等，復(fù)合薄膜，石墨烯等生長(zhǎng)。PECVD系統(tǒng)增加功能容易，可擴(kuò)展等離子清洗刻蝕等功能，PECVD系統(tǒng)薄膜沉積速率高、均勻性好、一致性和穩(wěn)定性高等優(yōu)點(diǎn)。
高真空PECVD系統(tǒng)主要特點(diǎn)：
1.通過(guò)射頻電源把石英真空室內(nèi)的氣體變?yōu)殡x子態(tài)。
2.PECVD比普通CVD進(jìn)行化學(xué)氣相沉積所需的溫度更低。
3.可以通過(guò)射頻電源的頻率來(lái)控制所沉積薄膜的應(yīng)力大小。
4.PECVD比普通CVD進(jìn)行化學(xué)氣相沉積速率高、均勻性好、一致性和穩(wěn)定性高。
5.廣泛應(yīng)用于：各種薄膜的生長(zhǎng)，如：SiOx, SiNx, SiOxNy 和無(wú)定型硅(a-Si:H) 等。
