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依據長期的實踐,對拋光機理的認識,我們傾向綜合論的解釋,即視拋光過程為物理與化學作用的綜合,兩者作用存在于拋光過程始末。光學玻瑞的拋光是個極為復雜的過程,影響因素也是極為復雜的。認為拋光是精磨的繼續，它們從本質上是相同的，都是尖硬的磨料顆粒對玻璃表面進行微小切削作用的結果。但由于拋光是用很細顆粒的拋光劑（我公司目前使用的拋光粉粒度范圍(0.5um-3um）。所以微小切削作用可以在分子大小范圍內進行。由于研磨皿與鏡片表面相當吻合，因此拋光時切向力很大，從而使玻璃表面凸凹微痕結構被切削掉，逐漸形成光滑的表面。
